三星正在重新设计其 1c DRAM 工艺以提高良品率
据报道,三星正在重新设计其第六代1cDRAM,以提高良品率,并在即将推出的HBM4工艺中获得优势,这家韩国巨头目前正在考虑改革其1cDRAM工艺,据说这是HBM4工艺取得成功的关键因素。
根据ZDNet韩国的报道,三星自2024年下半年以来一直在评估其尖端DRAM工艺的设计,该公司现在已经重新设计了其高端1cDRAM,以确保其即将推出的HBM工艺能够得到业界的采用,而不像HBM3衍生产品在与英伟达等公司整合时遇到巨大障碍。
报道称,三星最先进的DRAM工艺没有达到目标良品率,据说约为60%-70%,这也是这家韩国巨头无法进入量产阶段的原因。据称,主要问题在于1cDRAM芯片的尺寸,三星最初的重点是缩小尺寸以实现更高的产量,但这意味着该公司要在工艺稳定性上做出妥协,从而导致良品率降低。
三星电子改变了1cDRAM的设计,增大了芯片尺寸,并致力于提高良品率,目标是在今年年中实现。看来他们正专注于下一代内存的稳定量产,即使成本更高。
-ZDNet韩国
由于SK海力士和美光等竞争对手已经完善了自己的HBM4设计,留给三星的时间已经不多了,尤其是在HBM3失败之后。
目前,三星第6代DRAM工艺的发展还存在不确定性,但据称我们可以在未来几个月内看到进展,这有可能使三星的HBM4工艺步入量产轨道,预计将于今年年底量产。
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